- 型号:
- ETD-900
- 产地:
- 北京
ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。
特点:
1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;
2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果;
3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;
4. 根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。
型号 | ETD-900 |
主机规格 | L360mm*W300mm*H380mm
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靶(上部电极) | 金:直径:50mm,厚度:0.1mm |
真空样品室 | 直径:160mm,高:120mm |
溅射面积 | Ф50mm |
真空指示表 | 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar |
离子电流表 | 最大电流:50mA(100mA) |
定时器 | 最长时间:3600S |
微型真空气阀 | 可连接φ3mm软管 |
可通入气体 | 多种 |
最高电压 | -1600 DCV |
机械泵 | 2L/S |
注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途