第1年
1400℃小型管式炉--GSL-1400X
三极电池测量装置--3ESTC15
气体可流动高温高压管式炉--OTF-120
A-Z系列晶体列表
1000℃小型RTP炉--OTF-1200X-4-RTP
4英寸真空立式淬火炉
带有预热系统的滑动PECVD
加热型对辊轧机--MSK-HRP-01
- 型号：
- VTC-3RF
- 产地：
- 安徽
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。
技术参数
输入电源 | 220VAC 50/60Hz, 单相 800W (包括真空泵） |
等离子源 | 配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配） 可选配300W射频电源（自动匹配） 注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间（点击图片查看详细资料） |
磁控溅射头 | 三个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接 靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm 一个快速挡板安装在法兰上 溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机） |
真空腔体 | 真空腔体：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高纯石英制作 密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封 一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图） 真空度：<1.0×10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）,<5×10-5 torr （采涡旋分子泵） |
载样台 | 载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热 载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片） 旋转速度：0 - 20 rpm 样品台的最高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃ 控温精度+/- 10℃ |
真空泵 | 我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售 |
薄膜测厚仪（可选） | 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据 |
质保和质量认证 | 一年质保期，终生维护 CE认证 |
外形尺寸 |
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使用注意事项 | 这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度 为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内
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注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
鲁公网安备37021402001368号