ASI J200 LA 激光剥蚀进样系统

型号：

J200 ;LA

产地：

美国

简介 
美国应用光谱公司 (Applied Spectra Inc.)专注研究激光剥蚀和光谱分析技术的高技术公司。 研发人员均为美国劳伦斯伯克利国家实验室的研究人员。 公司总裁Richard Russo 博士为美国劳伦斯伯克利国家实验室的资深科学家， 从事激光剥蚀及激光光谱元素分析技术三十多年， 创造性的将激光剥蚀技术 (Laser Ablation, LA) 及激光诱导击穿光谱 (Laser Induced Breakdown Spectroscopy, LIBS)相融合， 研发了J200系列激光剥蚀进样系统及光谱分析系统。 
J200 纳秒激光剥蚀进样及激光诱导击穿光谱复合系统实现了LIBS与LA-ICP-MS的同时测量，并具备多种测量功能： 可测量常量， 微量和同位素 (与ICP-MS串联)；分析有机元素及轻元素； 元素三维空间分布；校正ICP-MS质谱信号。主要用于地质矿物，土壤，植物，合金，新能源材料 (例如锂电池材料)， 刑侦证据等样品的剥蚀进样及化学成分分析。 
J200 LA 激光剥蚀进样系统可与市面上的四级杠质谱仪， 飞行时间质谱仪和高分辨质谱仪串联使用。

J200 LA 激光剥蚀进样系统特色 
      高稳定Q开关, 短脉冲Nd:YAG 激光 ，可选择多波长 < 5 nsec at 213 nm ，创新的模组化设，为独立 LA, LIBS, LA - LIBS 复合的系统设计 ，因分析需求，提供三种LIBS 检测器选择 ，激光剥蚀均匀且一致性的LA系统 
      自动样品高度调整功能 

      J200激光剥蚀进样系统采用ASI专利技术：剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合，解决了若样品表面凹凸不平而剥蚀不均、导致元素含量值误差大的问题；激光能量稳定阀确保了到达样品表面的激光能量均匀，使所有采样点的激光烧蚀均匀一致；3-D全自动操作台最大行程可达100mmx100mmx36mm，XY行程分辨率0.2μm，Z行程分辨率0.1μm， 优于其它任何同类产品

      稳定激光能量的光闸设置 

      高分辨双CMOS相机系统， 可用于宽视野观测样品表面特征 应用光谱公司的 Flex 样品室内置气体模组可优化气流和颗粒清洁能力，满足不同测量要求，先进的微集气管设计，可尽可能的减少排气，防止集结剥蚀颗粒，消除记忆影响。  
      双通道高精度质量流量控制器和电子控制阀 
      Axiom LA 软件系统 
      软件可整合控制硬件组件及ICP-MS 同pu步操作，轻松实现繁杂的激光采样与分析模式 ，强大的数据分析工具用于繁杂的 LA-ICP-MS 串联光谱分析 

      灵活的分析方法：全分析，夹杂物分析，斑点分析，深度分析和元素分映像 
      维护成本低 

      可扩充升级LA – LIBS 复合系统 
      可扩充升级飞秒 LA 系统 

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途