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Catalina中阶梯光栅光谱仪EMU-120/65

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APL
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产品详情
型号:
EMU-120/65
产地:
英国

EMU-120/65是一款能够兼顾高通光量、高分辨率和宽光谱测量的中阶梯光栅光谱仪,采用数值孔径F/3的光学设计,波长范围190-1100nm,分辨力60,000(λ/FWHM),并获得美国专利保护。EMU-120/65中阶梯光栅光谱仪是LIBS、拉曼、OES/AES、光致发光等测量的理想工具,相比F/10中阶梯光栅光谱仪,灵敏度提高10倍以上。

EMU-120/65的另一大优势可以选用EMCCD相机,相比于ICCD相机具有更高的量子效率、分辨率和帧频,而且EMCCD相机不会轻易被强光损坏,对使用条件的要求不高。

此外,超低杂散光的光学设计加上软件控制的杂散光去除算法,使得EMU-120/65成为一款针对吸收光谱测量非常强大的仪器。


产品特点:

- 高通光量F/3

- 光谱分辨力60,000(λ/FWHM)

- 宽光谱范围190-1100nm(可选400-1700nm)

- 无需机械扫描,一次曝光获得全光谱

- 用户可自行更换光栅和入射狭缝,灵活调整通光量和分辨率


光谱分辨力

EMU-120/65卓越的光学设计实现了单个像素的分辨力。能够清晰分辨汞Hg的双峰313.155nm和313.184nm。每个峰对应一个CCD像素宽度(8微米),FWHM值0.0049nm ,分辨力63,000。





通光量/收光效率


下图是EMU中阶梯光栅光谱仪(蓝色)和SE 200中阶梯光栅光谱仪(红色)测量氘/卤钨灯的光谱对比,其中EMU数值孔径F/3,SE 200数值孔径F/10,两台光谱仪采用相同的光栅、相机和狭缝。


下图是铁元素Fe的LIBS光谱对比,EMU中阶梯光栅光谱仪搭配EMCCD(蓝色),SE 200中阶梯光栅光谱仪搭配ICCD(红色)。



杂散光和散射光


下图的过度曝光的HeNe激光线显示了主要是由光栅引起的小角度散射。散射光被测量为HeNe峰值强度的一部分,并且它在距离峰值1纳米处下降到CCD动态范围极限以下。EMU-120/65旨在最 大限度地减少受散射影响区域的杂散光。

产品指标:

数值孔径

F/3

焦长

120mm

放大率

0.54

波长范围

190-1100nm

散射光

2.0   x 10-5 @ 1nm HeNe激光

杂散光

2.0   x 10-6

光纤输入

SMA接头

入射狭缝

用户可以自行更换不同规格的狭缝

狭缝宽度8-128微米,狭缝高度12-128微米

光谱分辨力

用户可以自行更换不同型号的光栅,不同型号对应不同的分辨力R

HT Series: up to R = 9,500

HR Series: up to R = 12,000

UV Series: up to R = 30,000

IS Series: up to R = 40,000

IX Series: up to R = 60,000





注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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