NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统

型号：

NSC-3000 (A)

产地：

美国

磁控溅射技术

NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-3000（A）带有14”立方形铝质腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，我们提供不锈钢腔体，260 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统产品特点：

不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃

70或250l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下载片

基于LabView软件的PC计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

完全的安全联锁功能

预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统选配项：

不锈钢腔体

RF、DC溅射

RF或DC偏压（1000V）

样品台可加热到700°C

膜厚监测仪

基片的RF射频等离子清洗

NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统应用：

晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

光学以及ITO涂覆

带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆

带RF射频等离子放电的反应溅射




注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途