第1年
芬兰Picosun原子层沉积系统 R-200系
云端智能手持拉曼检测仪 M1/M2
PICOSUN原子层沉积ALD P-300系列
纳米力学综合测试系统NanoTest系列
PLD 脉冲激光沉积系统（PLD激光分子
- 型号：
- PICOSUN™ ALD P-300
- 产地：
- 芬兰
PICOSUN™ P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有专利的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有专利技术的Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效，并已在生产线上得到验证。
PICOSUN™ P-300型原子层沉积系统是一款批量生产型设备，用于加工打印读头、传感器、麦克风等MEMS器件；以及透镜、各种光学部件、珠宝、硬币、医疗植入物等3D部件。
PICOSUN™ P-300BV系统代表了工业化ALD工艺水平。这个系统是为半自动化的批量生产而设计。设备本身针对快速批量生产进行了优化，并允许通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。拥有加热选项的真空加载系统可以对敏感的基底进行洁净加工并沉积金属氮化物薄膜。
PICOSUN™ 300 mm 生产线应用案例
| 集成电路组件 | 微机电系统 |
| 氧化物间隔层 | 扩散阻挡层 |
| 间聚介质 | 耐磨涂层 |
| 高K栅介质 | 电荷耗散层 |
| 隧穿氧化物薄膜 | 导热层 |
| 氧化物阻挡层 | 导电种子层 |
| 钝化层 | 刻蚀阻挡层 |
| 间隙填充层 | 电绝缘层 |
| 覆盖层 | 防摩擦层 |
| 铜阻挡层和阻挡层 | 防粘着层 |
| 粘附层 | 光学薄膜 |
| 扩散阻挡层 | 生物兼容层 |
| 点极 | 密封层 |
| 金属化 | 纳米孔封堵层 |
| 其他 | 显示 |
| 晶体管 | 钝化 |
| 电容层 | 透明导电薄膜 |
| 存储器 | 绝缘层 |
| 读写磁头 |
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
鲁公网安备37021402001368号