牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

型号：

ALD OpAL

产地：

英国

OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。

紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项

适用于小尺寸至200mm的晶圆片

蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体

实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪

ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求

实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪

OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD

牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。

特征

可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境

易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间

机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺

气动起重装置 - 用于安全打开腔室

可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺

应用

纳米电子

高K栅氧化物

存储电容电介质

用于Cu互连的高深宽比扩散隔层

用于OLED和聚合物的无针孔钝化层

用于晶体硅太阳能电池的钝化

用于微流体和MEM的高保形涂层

纳米多孔结构的涂层

生物MEMS

燃料电池

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途