半导体行业用超纯水中金属杂质的测定 电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)

　　【仪器仪表网  专题推荐】手机CPU生产制造过程中，会大量的采用到水，用作晶片清洗和化学浴中化合物的溶解稀释。和我们平时生活饮用水的规定有所不同，手机CPU需要采用超纯水。超纯水，究竟规定有多高呢?半导体行业用超纯水中金属杂质的检测，可借助于电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)来实现。

　　根据SEMIF63-0918《半导体加工中超纯水使用指南》，除B(50ppt)和Ni(3ppt)外，26种金属污染物的目标值应小于1ppt。比GB5749-2006《生活饮用水卫生标准》中，规定的铅限量值0.01mg/L，低了1万倍。如果按照一个标准游泳池按照长50米，宽25米，深2米计算，那么相当于400个游泳池里才允许有1克金属污染物。

　　这么低含量的金属杂质如何才能准确的检测呢?

　　要在短时间内测定出此类具有如此低含量的元素，可选的技术即为电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)。

　　仪表设备NexION5000是业界为数不多的化学高分辨多重四极杆ICP-MS，由四组四极杆组成，其性能超越了高分辨ICP-MS和传统的三重四极杆技术，无论是在背景等效浓度还是在检出限，NexION5000都有数量级上的改善。

　　对于超纯水的所有分析均采用NexION5000ICP-MS在标准配置下进行，仪器参数如下表：

　　对于BEC和DL的测定，采用10、20、40和60ppt标准建立校准曲线。所有曲线的线性回归值(r2)均大于0.999，这表明分析的线性度好，能够在低浓度下准确测定，并且能够有效消除干扰。下图分别示出了“标准MS/MS”模式、“反应(NH3)MS/MS”模式和“反应(O2)质量转移”模式下的四种典型校准曲线。

　　NexION5000化学高分辨多重四极杆ICP-MS，可以轻松达到半导体行业用超纯水中无机元素的SEMI或ASTM规定，具有卓越的消除质谱干扰和痕量元素检测能力。