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原子力显微镜(Atomic Force Microscopy)观察多铁薄膜中的磁畴翻转

来源:仪器网 作者:张大摄 日期:2024-11-21 16:38:11
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  【仪器网  专题推荐】日本的研究组制备了BFCO钴铁酸铋薄膜(部分铁原子被钴原子置换的铁酸铋),能够在室温中自发形成面外的磁畴结构。通过纳米尺度的磁学表征和机电耦合表征,研究者证实了材料的磁畴能够被电场翻转。原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)观察多铁薄膜中的磁畴翻转。

多铁薄膜

  基于磁阻效应的随机存取存储器(MRAM)以及其它一些新型的磁学器件,有望成为快速、高密度、长寿命的数据存储解决方案。如果可以通过电场而不是电流来控制磁场,那么此类器件的功耗将能够被进一步降低。然而,实现电场调控是非常有挑战的工作。

  东京工业大学和名古屋工业大学的学者通过具有铁磁性和铁电性的BFCO薄膜,在这一领域取得了进展。薄膜在钪酸钆基底上生长,以减小晶格失配导致的应力。由此制备的单一晶相的薄膜在室温下具有自发形成的面外磁畴。

  利用原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)的磁学表征和机电耦合表征技术,研究团队发现了材料的面外磁畴方向可以被电场方向所调控,而不需要施加电流。这表明材料的电畴和磁畴之间存在显著的耦合作用。

  这项发现将有助于开发具有低功耗的MRAM及其它非易失性磁存储器件。

磁畴翻转

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