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那诺-马斯特中国有限公司  

Sputtering/磁控溅射系统，PECVD/等离子增强化学气相沉积，PA-MOCVD/等离子辅助MOCVD，ALD/原子层沉积，Thermal Vacuum/热真空系统，TE&EBE/热蒸发电子束蒸发镀膜，PE&RIE/等离子刻蚀及反应离子刻，IBM&IBE/离子铣离子束刻蚀，ICP&DRIE/感应耦合等离子及深硅，PLD/脉冲激光沉积系统，Ion Beam Sputter/离子束溅射系，Cleaner&Megasonic/兆声清洗去胶，Cleaner&Ion Beam/离子束清洗系，Cleaner&
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NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统 ￥1000000.000已售
NLD-4000 (ICPA) PEALD系统 ￥1000000.000已售
NLD-3500 (A) 全自动原子层沉积系统 ￥1000000.000已售
NLD-4000（ICPM）PEALD原子层沉积系统 ￥1000000.000已售
NTE-4000 (A) 全自动热蒸发系统 ￥800000.000已售
NTE-3500 (M) 热蒸发系统 ￥800000.000已售
NTE-3000 热蒸镀系统 ￥500000.000已售
NPC-4000 (M) 等离子清洗机 ￥1000000.000已售
磁控溅射系统NSC-4000 (M) ￥800000.000已售
SWC-4000 (C) 兆声清洗系统 面议0询价
LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统 面议0询价
SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统 ￥800000.000已售
NPC-3500 (A) 全自动等离子清洗机去胶机 ￥800000.000已售
SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机 ￥10000.000已售
LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统 ￥800000.000已售