半导体级盐酸中的元素杂质的测定 电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）

　　【仪器网 行业应用】研究显示NexION 2200 ICP-MS具有良好的稳定性，适用于浓盐酸（HCl）中ng/L水平的超痕量杂质的常规定量。数据表明UCT可有效消除氯基体带来的质谱干扰。

　　在反应模式下，可在SEMI C27-0918 Tier-D水平直接测量20% HCl中的杂质。这种方法消除了复杂的样品预处理或稀释的需求，从而最大限度地降低了污染风险。

　　01实验

　　所有样品制备和分析步骤均在受控实验室中100级性能的洁净间中进行。

　　样品和标准溶液制备

　　采用标准加入法（MSA）直接分析未稀释的20%超纯盐酸（Tamapure-AA 10，Tama Chemicals，日本神奈川）。通过对几组10 mg/L多元素标准品（珀金埃尔默Pure，珀金埃尔默，美国康涅狄格州谢尔顿）进行连续稀释，并将最终标准品直接加标到20% HCl中，制备标准溶液。

　　仪器

　　所有实验均使用NexION 2200 ICP-MS（珀金埃尔默，美国康涅狄格州谢尔顿）执行。本文使用两种反应气体（NH3和O2）来解决质谱干扰。P、S、As和Se使用O2为反应气体在质量转移模式中测量，其余元素以NH3作为反应气体在On Mass模式中测量。在1%HNO3中加入1000 ppt标准溶液，对操作条件进行优化。仪器参数和进样组件见表2。每种分析物的模式和反应池带通设置列在表3中。

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