半导体工业四甲基氢氧化物(TMAH)杂质的测定 NexION 5000 ICP-MS

　　【仪器网 行业应用】SP-ICP-MS是分析半导体行业有机溶剂中金属纳米颗粒的有力工具。特别是在珀金埃尔默NexION ICP-MS中，通用池技术(UCT)的优势得以充分发挥，包括利用AFT和RPq因子对信号进行干扰消除和控制。使用100%氨气作为反应气体则有助于降低铁等元素的检测限。通过这些技术和方法，我们可以更准确地检测和测量半导体化学品中的纳米级污染物。

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　　问题分析

　　在半导体工业中，金属污染是一个严重的问题。这些污染物主要是过渡金属和碱性元素，它们可能会以纳米级大小聚集在晶圆表面，导致晶圆线之间的损坏或短路。随着线宽的不断缩小，我们需要检测更小、更低的污染物。而在这个挑战中，四甲基氢氧化物(TMAH)作为其中一种重要的化学品，其杂质的分析显得尤为重要。

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　　解决方案

　　为了解决这个问题，我们引入了一种强大的检测技术：电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)。这种技术具有高灵敏度、灵活的样品类型、快速测量速度和宽线性动态范围等优点。特别是单颗粒模式(SP-ICP-MS)下的ICP-MS，它已经成为检测和测量纳米颗粒的强大工具。

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　　实验过程

　　在实验中，我们使用了超纯水和纯度较高的TMAH。通过连续稀释样品，我们成功地对不同元素颗粒进行了多次稀释。在珀金埃尔默NexION 5000 ICP-MS的单颗粒模式下，我们采集了所有的SP-ICP-MS数据，并使用了Syngistix Nano应用软件模块进行数据处理。

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